Cat-CVD研究会

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研究会案内

実行委員長より

　2018年4月12日

　Cat-CVD（触媒化学気相堆積）法は、加熱した触媒体上でのガス分子の分解を利用して薄膜を堆積する技術であり、気相中ではラジカルのみが生成されるためイオン損傷のない薄膜堆積、表面の改質、エッチングや水素化などができるという特徴を有しています。現在では、アモルファスシリコンや窒化シリコン薄膜堆積への応用から始まり、有機薄膜や酸化物薄膜などの多種多様機能性薄膜へと応用が広がってきました。また、高密度のラジカルを生成できることから、基板や薄膜への表面処理や表面改質技術としても展開されています。 Cat-CVD研究会は北九州市での開催で15回目となります。同時に、Cat-CVDの国際会議も10回目を迎え、HWCVD10を開催いたします。Cat-CVD技術の基礎的理解を深め、応用分野のなお一層の展開が図られるための議論や情報交換を行う場としてご利用いただければ幸いに存じます。関連研究者はもとより、少しでも興味を持っておられる方々のご参加をお待ちしております。

第15回Cat-CVD研究会・HWCVD10　実行委員長　　和泉　亮

テーマ・内容

以下のCat-CVD技術について、基礎から応用まで幅広く議論します。

　(1)　ガスの分解過程、気相反応、触媒体材料
　(2)　Cat-CVD、Hot-Wire装置開発
　(3)　堆積膜の基礎物性および評価
　(4)　ラジカル処理
　(5)　デバイス応用
　(6)　新分野・新展開　　など

日時場所

開催日時

2018年９月　3日（月）～　6日（木）

開催場所

北九州国際会議場

　

アクセス

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