Cat-CVD研究会
2021年７月９日（金）,10（土）
ハイブリッド開催 北陸先端科学技術大学院大学
大平 圭介
北陸先端科学技術大学院大学
〒923-1292
石川県能美市旭台1-1
0761-51-1563（直通）
プログラム
第18回 Cat-CVD研究会 講演プログラム
令和3年7月9日（金）～10日(土)
ハイブリッド開催
7月9日（金）対面/オンラインハイブリッド
13:15 オープニング
大平 圭介（北陸先端科学技術大学院大学）
13:20
カーボンナノウォール用基板材料の探索－炭素基板、銅基板上への作製
伊藤 貴司、平田 楓、長田 佑太、大野 純弥、山田 繁（岐阜大学）
13:40
タングステンHot-Wireで活性化したH2/O2混合ガスによるノボラックレジストの除去性の検討
山本 雅史1、秋田 航希1、十川 翔太1、十亀 龍星1、長岡 史郎1、梅本 宏信2、堀邊 英夫3（香川高専1、静岡大学2、大阪市立大学3）
14:00
熱フィラメントCVD法によるダイヤモンド薄膜の成長とリン不純物添加
片宗 優貴、平木 元博、山口 遼平、和泉 亮（九州工業大学）
14:20
How-wire酸素化による非晶質In-Sn-Zn-O TFTの信頼性向上
玉井 隆一、清水 耕作（日本大学）
14:40 休憩
14:55
熱フィラメントCVD法によるダイヤモンド薄膜の形成と耐環境エレクトロニクスへの展開
大曲 新矢、Phongsaphak Sittimart、岩崎 渉、森田 伸友、竹村 謙信、山田 浩志、山下 健一（産業技術総合研究所）
15:15
理論検討に基づくSiC-CVIにおける気相・表面反応機構
佐藤 登、大高 雄平、出浦 桃子、百瀬 健、霜垣 幸浩（東京大学）
15:35
Ti基板の原子状重水素処理
部家 彰、福室 直樹、八重 真治、住友 弘二（兵庫県立大学）
15:55
原子状水素を用いたベンゾフェノン/PMMAのドライ現像プロセスへの応用
堀邊 英夫、竹森 友紀、神戸 正雄（大阪市立大学）
16:15
配線技術における低温成膜の重要性
武山 眞弓、佐藤 勝（北見工業大学）
16:35 見学ツアー（対面参加者のうち希望者）
7月10日（土）オンラインのみ
9:00
マイクロ引き下げ法による高融点合金線材の作製と、その電気・機械的特性
村上 力輝斗1,2、鎌田 圭1,2、及川 勝成1、高橋 勲2、山口 大聡2、吉川 彰1,2（東北大学1、C&A2）
9:20
SiC:H薄膜を界面層に用いたヘテロ接合素子の特性
水谷 凌、田畑 彰守（名古屋大学）
9:40 ポスターセッション（プログラムは末尾）
11:00 休憩
11:10
Cat-Hによる結晶Si表面のパッシベーション性能の改善
文 昱力、Huynh Tu Thi Cam、大平 圭介（北陸先端科学技術大学院大学）
11:30
排出ガス改質・原料再利用を含むSiC-CVIプロセス
大高 雄平、佐藤 登、出浦 桃子、百瀬 健、霜垣 幸浩（東京大学）
11:50 クロージング
大平 圭介 （北陸先端科学技術大学院大学）
ポスターセッション
P1
熱フィラメントCVD法によるダイヤモンド成長膜の高品質化と大型ショットキーバリアダイオードの作製
山口 遼平1、大曲 新矢2、Phongsaphak Sittimart2、片宗 優貴1、和泉 亮1（九州工業大学1、産業技術総合研究所2）
P2
HW法により生成した水素ラジカルによる粉鉱の還元におけるステージ温度依存性
中原 由翔、片宗 優貴、和泉 亮（九州工業大学）
P3
加熱触媒体により形成したSiO2膜の金属汚染低減による絶縁性の向上
松永 和樹、片宗 優貴、和泉 亮（九州工業大学）
P4
触媒体表面処理を施して堆積したSiCN膜の表面組成の調査
森永 隆希、岩崎 雄大、片宗 優貴、和泉 亮（九州工業大学）
P5
HW 法におけるHMDS によるタングステン触媒体の組成変化の評価
岩崎 雄大、森永 隆希、片宗 優貴、和泉 亮（九州工業大学）
P6
カーボンナノウォール電極を用いた電気二重層キャパシタの試作と評価
大野 純弥、平田 楓、田邉 耕生、山田 繁、伊藤 貴司（岐阜大学）
P7
水素化Cat-CVD n-a-Si膜へのFLAによるテクスチャ化ガラス上へのn-poly-Si薄膜の形成
Wang Zheng、Huynh Tu Thi Cam、大平 圭介（北陸先端科学技術大学院大学）
P8
Cat-CVD SiNx/Si(100)界面に形成した極薄酸化シリコン膜による表面パッシベーションへの影響
中島 寛記、Huynh Tu Thi Cam、大平 圭介（北陸先端科学技術大学院大学）
P9
Silicon Heterojunction Solar Cells with a Counter-Doped n-a-Si Film Treated by Flash Lamp Annealing
Liu Yujia1、Huynh Tu Thi Cam1、山口 昇2、大平 圭介1（北陸先端科学技術大学院大学1、アルバック2）
P10
Cat-CVDによって堆積したSiNx上でのAg電極のコンタクト形成
板坂 年希1、立花 福久2、Huynh Tu Thi Cam1、大平 圭介1（北陸先端科学技術大学院大学1、産業技術総合研究所2）
P11
フラッシュランプアニールで形成した多結晶シリコン膜の追加熱処理による低欠陥化
柳 雄大、Wang Zheng、Huynh Tu Thi Cam、大平 圭介（北陸先端科学技術大学院大学）
P12
微結晶Siを電子輸送層に用いたペロブスカイト太陽電池の作製
Liu Kuan1、相撲 優花2、深谷 翔子2、Huynh Tu Thi Cam1、Md.Shahiduzzaman2、當摩 哲也2、大平 圭介1（北陸先端科学技術大学院大学1、金沢大学2）
P13
熱フィラメントCVD法による高濃度ホウ素ドープダイヤモンド層の成長と耐放射線評価
岩尾 友貴、大曲 新矢、Phongsaphak Sittimart、石地 耕太朗、吉武 剛、山田浩志（産業技術総合研究所）
P14
窒化ラジカル処理によるZrO2膜の特性
川合 祐貴、佐藤 勝、武山 真弓（北見工業大学）
