Cat-CVD研究会

12:00-13:00　　研究会　受付

13:00-13:05　　オープニング　和泉 亮　（九州工業大学）

13:05-14:20　　オーラルセッション１　座長：堀邊 英夫（大阪公立大）

S01　13:05-14:20　　基調講演
Cat-CVD法、今までに成し遂げたこととこれからの展開
松村 英樹　（北陸先端科学技術大学院大学・名誉教授）

14:20-14:50　　休憩

14:50-16:10　　オーラルセッション２　座長：清水 耕作（日本大）

S02　14:50-15:30　　招待講演
CVDダイヤモンドのn型ドーピング
小泉 聡　（物質・材料研究機構）

S03　15:30-16:10　　招待講演
未利用バイオマス資源の活用を目指した「竹のカスケード利用」について
坪田 敏樹　(九州工業大学)

16:10-18:10　　ポスターセッション

P01
Cat-CVD SiNy/超極薄SiOx積層膜による ピラミッドテクスチャSi表面のパッシベーション
中島 寛記*，Huynh Thi Cam Tu，大平 圭介
（北陸先端科学技術大学院大学）

P02
太陽電池応用を目指したCat-CVD n-a-Si:H薄膜のFLAによる結晶化と その表面パッシベーション
Wang Zheng*, Huynh Thi Cam Tu，大平 圭介
（北陸先端科学技術大学院大学）

P03
ベイズ最適化を適用したCat-CVD i-a-Siパッシベーション膜の特性評価
大橋 亮太*, ¹，沓掛 健太朗²，Huynh Thi Cam Tu¹，東嶺 孝一¹，大平 圭介¹
（¹北陸先端科学技術大学院大学，²理化学研究所）

P04
HW法による原子状水素を用いた酸化銅の還元評価
國友 亮佑*，片宗 優貴，和泉 亮
（九州工業大学）

P05
低真空における水分解種による滅菌処理の検討
加茂 智歩理*，川田 正幸，片宗 優貴，和泉 亮
（九州工業大学）

P06
原子状水素・原子状窒素による酸化グラフェンの還元・Nドープの最適化
藤本 健汰*，上霜 未空，部家 彰，住友 弘二
（兵庫県立大学）

P07
Si基板上へのリン添加多結晶ダイヤモンド膜の成長に及ぼす予備成長層の影響
中村 龍平*，片宗 優貴，和泉 亮
（九州工業大学）

P08
リン添加多結晶ダイヤモンド膜のCVD成長と結晶方位評価
山口 一色*，片宗 優貴，和泉 亮
（九州工業大学）

P09
熱フィラメントCVD法により成長したリン添加多結晶ダイヤモンド膜のカソードルミネッセンス評価
井下 智史*,^{1, 2}，片宗 優貴,^{1, 2}，和泉 亮¹，寺地 徳之²，渡邊 賢司²，小泉 聡²
（¹九州工業大学，²物質・材料研究機構）

P10
12インチ対応型熱フィラメントCVD装置の開発と多結晶ダイヤモンド薄膜の合成
大谷 亮太*, ^{1, 2}，大曲 新矢¹，北市 充¹
（¹株式会社ExtenD，²オーエスラボラトリー）

P11
CO₂添加による熱フィラメントCVD法製高濃度ホウ素ドープダイヤモンドの結晶性向上
蔭浦 泰資*, ¹，笹栗 優^{1, 2}，吉武 剛²，大曲 新矢¹
（¹産業技術総合研究所，²九州大学）

P12
N-Doped Diamond: A Promising Material for High-Performance Visible-Light Photodetectors in Harsh Environments
Phongsaphak Sittimart*, ^{1, 2}，大曲 新矢¹，吉武 剛²
（¹産業技術総合研究所，²九州大学）

P13
ダイヤモンドヘテロエピ基板上に作製したショットキーバリアダイオード特性 ：デバイスキラー欠陥低減の効果
笹栗 優*, ¹，蔭浦 泰資²，吉武 剛¹，大曲 新矢²
（¹産業技術総合研究所，²九州大学）

P14
ダイヤモンド疑似縦型ショットキーバリアダイオードの過渡応答特性
西田 大生*, ^{1, 2}，蔭浦 泰資¹，大曲 新矢¹
（¹産業技術総合研究所，²佐賀大学）

9:00-9:20　　研究会　受付

9:20-10:40　　オーラルセッション３　座長：部家 彰（兵庫県立大）

O01　9:20-9:40
リン添加による多結晶CVDダイヤモンドの表面構造変化
片宗 優貴*，松本 拓万，山口 一色，和泉 亮　（九州工業大学）

O02　9:40-10:00
ダイヤモンド電子舌センサにより取得した化学指紋情報の安定性評価
大曲 新矢*，森田 伸友，竹村 謙信，岩﨑 渉　（産業技術総合研究所）

O03　10:00-10:20
電気二重層キャパシタにおけるカーボンナノウォール電極への酸素プラズマ処理効果
伊藤 貴司*，大野純弥，原 拓矢，山田 繁　（岐阜大学）

O04　10:20-10:40
タングステンHot-Wireで活性化したH₂/O₂混合ガスによるスチレン系ポリマーの分解物の評価
山本 雅史*, ¹，長岡 史郎¹，梅本 宏信²，堀邊 英夫³　（¹香川工業高等専門学校，²静岡大学，³大阪公立大学）

10:40-11:00　　休憩

11:00-12:00　　オーラルセッション４　座長：山本 雅史（香川高専）

O05　11:00-11:20
高温高湿環境下でのCat-CVD SiNx薄膜の安定性
Huynh Thi Cam Tu*，大平 圭介　（北陸先端科学技術大学院大学）

O06　11:20-11:40
H-W法による原子状酸素処理の非晶質In-Sn-Zn-O薄膜トランジスタへの信頼性向上
清水 耕作　（日本大学）

O07　11:40-12:00
p型硫化モリブデンTFTの酸素化処理による特性改善
李 柯澄*，清水 耕作　（日本大学）

12:00-13:30　　昼食

13:30-14:10　　オーラルセッション５　座長：伊藤 貴司（岐阜大）

S04　13:30-14:10　　招待講演
結晶Si 太陽電池セル・モジュールの最近の進展
増田 淳　（新潟大学）

14:10-14:50　　オーラルセッション6　座長：大曲 新矢（産総研）

O08　14:10-14:30
原子状水素アニールおよび軟X線照射による酸化グラフェンの低温還元
部家 彰*，藤淵 暁昇，神田 一浩，住友 弘二　（兵庫県立大学）

O09　14:30-14:50
原子状水素アニールによる酸素含有フッ素コート膜の表面処理
大塚 英雄*，部家 彰，神田 一浩，住友 弘二　（兵庫県立大学）

O10　14:50-15:10
Si-rich SiOx膜の原子状水素アニールによる表面改質における軟X線照射効果
太田 和志*, 部家 彰, 住友 弘二, 神田 一浩, 井上 尚三 （兵庫県立大学）

15:10-15:20　　クロージング　大平 圭介　（北陸先端科学技術大学院大学）